產品分類
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- CVD氣相沉積系統
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- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
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1200℃單溫區3路浮... 1200℃單溫區3路浮子供氣高真空CVD系統由單溫區管式爐、三路浮子流量計和高真空分子泵組組成。管式爐由精密控溫儀表進行...
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1200℃單溫區3路浮... 1200℃單溫區3路浮子供氣低真空CVD系統由單溫區管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控溫儀表進行...
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1200℃單溫區三通道... 1200℃單溫區三通道混氣CVD系統由單溫區管式爐和三路浮子流量計組成。1200℃單溫區三通道混氣CVD系統管式爐由精密...
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全自動CVD滑軌爐 全自動CVD滑軌爐系統由雙溫區滑軌爐、質子流量控制系統、真空系統三部分組成。雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫；四路質...
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1200℃三溫區三通道... 1200℃三溫區三通道混氣CVD系統由三溫區管式爐和三路浮子流量計組成。管式爐三個溫區分別由精密控溫儀表獨立控溫，通過調...
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1200℃三溫區旋轉自... 1200℃三溫區旋轉自動進出料CVD系統安裝有投料器和收料罐。1200℃三溫區旋轉自動進出料CVD系統投料器可以以額定速...
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兩通道CVD系統 本CVD系統帶水冷法蘭雙路流量計并配有雙極旋片泵、水冷機、數字真空計且該CVD系統可抽真空、通氣氛用于各種CVD實驗。
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1200℃三通道CVD... 該套CVD系統主要由：材料加熱、真空獲取、氣體測量和等離子發生器四大部分構成。可以滿足日常的大多數CVD實驗和各種科研要...
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三溫區1600 CVD... 該三溫區1600 CVD系統主要用于真空燒結、氣氛保護性燒結、真空鍍膜 各種材料煅燒、需要溫度梯度的各種CVD實驗
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立式三溫區管式爐 立式三溫區管式爐適用于精密陶瓷等新材料的熱處理
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超聲波霧化立式單溫區管... 超聲波霧化立式單溫區管式爐是一款多功能的合成系統，針對于合成各種納米結構氧化物以及納米材料的復合包覆工藝。此款儀器有三個...
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真空立式淬火爐 真空立式淬火爐主體為開啟式立式管式爐，爐管上法蘭裝有吊鉤及爐塞，可手動松開吊鉤使懸掛的樣品落下；下法蘭與密封的液體容器通...
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高真空立式淬火爐 真空立式淬火爐CY-O1200-Φ100-400-V-T-CH是一款立式可開啟真空管式淬火爐，配有一個密封的液體容器用于...
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立式流化床管式爐 該款立式流化床管式爐是一款流化床立式CVD系統，專門針對粉末實驗。立式流化床管式爐儀器采用先進的PID智能控溫，控溫精度...
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立式管式爐 立式管式爐采用高質量電爐絲作為加熱元件，加熱溫度可達1200℃，石英爐管管徑為50mm。若客戶有需要，可聯系技術人員定制...
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1700度立式流化床管... CY-V1700-100IT硫化爐是一款流化床立式CVD系統，專門針對粉末實驗，爐管為高純剛玉管，爐管內部嵌有一個微孔陶...
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1200℃開啟式單溫區... 1200℃開啟式單溫區立式管式爐，采用高純石英制作爐管。加熱溫區：440mm；恒溫區200mm；爐管直徑有：50mm，6...
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1200℃開啟式雙溫區... 1200℃開啟式雙溫區立式管式爐，采用高純石英制作爐管。加熱溫區：220mm+220mm；恒溫區100mm+100mm；...
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1200℃開啟式三溫區... 1200℃開啟式三溫區立式管式爐，采用高純石英制作爐管。加熱溫區：220mm+440mm；恒溫區100mm+200mm+...
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1100℃16通道管式... 16通道管式爐針對于高通量樣品燒結，退火和淬火使用，其*高溫度可達1100℃。每個加熱模塊都由獨立的溫控系統控制，每個爐...
